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纳米压印与光刻的区别 |
纳米压印可以做到几纳米,纳米不可以做到的是什么
有一种广为流传的观点认为,由于目前日本纳米压印技术(NIL)的突破,可以在不使用EUV光刻机的情况下制造5nm芯片,这让ASML倍感压力。 NIL纳米压印是什么技术? 这项技术可以实现纳米压印,可以在芯片领域分得一杯羹。 21.微纳加工技术,作为一种典型的先进制造技术,其制造精度可以达到
百度爱购可以为您找到国内最新纳米压印机产品的29项最新详细参数、实时报价、市场动态、优质商品批发/供应信息。您还可以免费查询和发布询价信息。 东京理科大学(TUS)的学者近日在纳米压印技术研究方面取得突破,利用紫外线硬化纳米压印(UV-NIL)技术创造出分辨率小于10纳米的形态。 UV-NIL技术因其不需要高温高压条件而备受关注。
佳能最新的NanoImprint(NIL)叠印精度为2.4nm/3.2nm。正在开发的NIL已经可以处理高达5nm的电路线宽,并且每小时可以曝光超过100片晶圆。每片晶圆的功耗大约是使用EUV光刻技术的十分之一。 据悉,1995年,中国科学家周斯蒂芬教授首次提出纳米压印的概念,拉开了纳米压印制造技术的研究序幕。 纳米压印技术是当今最有前途的纳米制造技术之一,很可能成为微纳电子和光学的未来。
近日有消息称SK海力士从佳能引进了纳米压印设备,计划用于3DNAND闪存的量产,测试正在进行中,目前测试结果良好。 据悉,使用该技术的成本将比EUV光刻机低40%。不过,由于两者原理相似,所以科学界有人戏称纳米压印技术为雕刻印刷技术。 该技术主要用于芯片加工,与传统光刻技术相比,纳米压印成本更低、工时更短、精度更高,因此不
还可以根据固化方式、压印面积、模具等分为不同类型。 3.纳米压印工艺步骤纳米压印需要将模具上的图案"压"到转印介质上,就像Westamp时需要"用力"一样。 这里我们常见的是简单的重复结构,如纳米柱阵列、孔阵列、光栅结构、六边形蜂窝结构(如下图4所示)等。这些结构的特点是单个图案的加工难度不大,但面积较大,导致加工成本较高。
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