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华为和上海微电子合作 |
上海微电子28nm光刻机量产,中国唯一一台7nm光刻机
上海微电子发布公告称"90nm光刻机目前已量产"。 请注意措辞,"可量产"并不意味着"已经量产"。据传,如果光刻机技术能够突破28nm工艺,那么距离14nm以下尖端技术芯片所需的光刻机就不远了。 原荷兰ASML中国大厂中芯国际此前已从ASML采购28nm光刻机,具备自主生产28nm芯片的能力。此外,中国高校和研究机构也在加大28nm光刻机技术的研发力度,取得了重要突破。
其中,上海微电子是大陆实力最强的光刻机公司,该公司已量产SEMM光刻机,可生产90nm光刻机。 据悉,上海微电子已开始研发28纳米光刻机,如果进展顺利,这款28纳米光刻机将投入使用。据悉,上海微电子目前已经能够制造90纳米光刻机,经过两次曝光后可以生产45纳米芯片。 EUV光刻机的3nm芯片有5代的差别。 但即使相差五代,上海微电子的光刻机也无法保证稳定性。 这就是为什么大陆晶圆厂更愿意选择
光刻机又称掩模对位曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心设备。 光刻机又称光学光刻机或紫外光刻机,是专门研究薄膜或衬底(又称"晶圆")上的零件;上海微电子作为国内光刻机龙头企业,巨腾刻印机公司在90纳米光刻机技术上逐年取得突破并实现量产。上海微电子在28纳米光刻机领域也取得了突破。在国内科技公司中,
国产光刻机的研发进程似乎变得越来越"混乱"。 今年6月,有消息称,国内光刻机领先者上海微电子将在一年内交付用于28纳米工艺生产的193纳米Ar光刻机。 此外,根据方正证券今年发布的相关研究显示,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的研发、设计、制造、销售和技术服务。 公司设备广泛应用于集成电路前端、先进封装、F
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标签: 中国唯一一台7nm光刻机
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