光刻机卡在哪里了,光刻机刻一枚芯片需要多久

光刻机卡脖子的核心零部件 2023-12-01 10:30 574 墨鱼

光刻机卡脖子的核心零部件

光刻机卡在哪里了,光刻机刻一枚芯片需要多久

众所周知，我们的EUV光刻机目前遇到了瓶颈。我原本以为成熟的半导体工艺设备如DUV光刻机不会遇到同样的情况。但没想到的是，现在有了DUV光刻胶，光刻胶需要搭配光刻机，现在没有EUV，所以目前的光刻胶还停留在7nm，据说5nm光刻胶正在试产。示例但无法验证优化，2023-10-1301:4517回复共6条回复，点击查看NO.003969颜色

≥△≤ |上海微电子研发出28nm浸没式光刻机，预计2023年底量产国内首台SSA/800-10W光刻机。哪里有压迫，哪里就有反抗。还有华为，希望华为的超导量子芯片能够像新能源汽车一样漂亮地"转身"。其中，荷兰的ASML技术水平最高，目前是唯一一家能够生产出世界顶级EUV光刻机的。而且并不是我们国家不能生产光刻机，而是我们国家技术水平低，只能生产低端光刻机。技术方面落后了好几代，所以我们

公众一直想知道，这个"卡住"的设备卡在哪里？能否像"两弹一星"工程那样实现光刻机的国产化？国内光刻技术领域的一位权威专家表示，困扰我们的不仅仅是光刻机和EDA，还有我们工艺的方方面面。阅读下面的内容

如果说光刻机卡在中国芯片的脖子上，那么工业软件就卡在中国芯片的脖子上。工业软件的缺失给智能制造带来了麻烦。当工业系统复杂到一定程度时，就需要用计算机辅助工业软件来代替人脑进行计算。从综合角度看，最难克服的三个问题至少是国产高端光刻机的瓶颈，它们实际上并不是光源。 4.国产光刻机实现突破的难点是什么？ ASML的光刻机依靠沉浸式和双机技术以及来自美国的支持。2006年，他们击败了佳能和尼康，成为光刻机的领先制造商。

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