中国能做几纳米的光刻机,中国光刻机发展现状

中国纳米压印技术公司 2023-11-19 12:51 223 墨鱼

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中国能做几纳米的光刻机,中国光刻机发展现状

虽然中国现在已经突破了22nm光刻机技术，但与荷兰ASML公司的5nm水平还有很大差距。但是，技术始终是一个从无到有到卓越的过程。俗话说，一切都是从头开始。现在国内光刻机已经生产了90纳米光刻机，而这个光刻机来自上海微电子。这也是我国唯一一家能够量产光刻机的芯片半导体公司。 AMEC是5纳米刻蚀设备的先驱，AMEC是世界上最好的公司之一。他们的5纳米刻蚀机

据悉，上海微电子研发的28纳米国产光刻机已经安排生产，一到两年内肯定会用于国产芯片的生产。而且，据中芯国际梁孟松透露，2020年，它肯定可以用于大规模量产。7台ASML最高端的EVU（极紫外）光刻机是采用光刻技术以波长10-14纳米的六极紫外光为光源。由于几乎所有光学材料对波长13.5nm的极紫光都有很强的吸收作用，因此EVU光刻机的光学系统只能使用

≥ω≤ 目前，世界上最先进的光刻机已经可以实现5nm工艺，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前世界上最先进的光刻机设备。目前国内最先进的光刻机应该是中科院光电所的22nm光刻机。它开创了一种新型超分辨光刻机，可以实现22nm工艺，现已投入使用。现在我国在光刻机领域的突破可以实现高分辨率、大面积的纳米光刻研发路线，相当于突破

2022年，中国光刻机将能够生产14纳米芯片。目前，我国的芯片制造厂最多可以量产14纳米芯片，虽然技术上可以量产7纳米芯片，但无法量产14纳米芯片。 2022年中国光刻机产量意味着我们国产光刻机目前可以实现90纳米工艺。此前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月推出首台采用Ar飞行光源的SSA800/10W光刻机。这是国产浸入式DUV光刻机，可实现单次曝光。

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标签：中国光刻机发展现状