中国纳米压印光刻技术,光刻机唯一上市公司苏大维格

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北京时间1月7日，中国触摸屏报报道，1995年，中国科学家周斯蒂芬教授首次提出纳米压印的概念，拉开了纳米压印制造技术的研究序幕。 纳米压印技术是当今最有前途的纳米制造技术。纳米压印光刻是目前正在为半导体开发的精细图案转移技术。 传统的图案创建减少投影曝光设备（步进器）已被使用，由于小型化，极紫外曝光设备以及金钱和图案掩模

ˋ△ˊ 我们希望这篇综述能够引起国内产业界和学术界的关注，为我国纳米压印技术的发展做出贡献。 这是一种全新的图形传输技术。 纳米压印技术的定义是：纳米压印光刻技术不使用光或辐照使光刻胶感光。与目前依靠光源曝光的光刻机不同，它结合了印刷技术和微电子制造技术。 电子束蚀刻技术将芯片图案雕刻在设备上并制造芯片。 理论上，NIL纳米压印技术

1.模板加工严重依赖光刻技术。可以说，目前模板加工大部分依赖于光刻技术，尤其是纳米级结构，几乎不可能绕过电子束光刻等方法，从而导致压印。 模板很贵。 2.纳米压印底漆问题该技术主要用于芯片加工。与传统光刻方法相比，纳米压印成本更低、工时更短、精度更高。因此，很多人预测，当纳米压印压印技术成熟后，很有可能取代光刻机。 芯片制造与光刻技术

(1)纳米压印在批量加工简单的3D微纳结构图案方面具有优势。我们通常所说的光刻技术是基于二维平面加工的，即使我们可以使用一些后续的辅助工艺方法(如果选择的话)，另外，纳米图案化的新市场正在迅速出现，许多非半导体应用将需要非常高分辨率的图案化，而这基本上只能获得从纳米压印来看，很少有新兴行业可以证明这笔费用是合理的。5000