中国14纳米芯片光刻机量产,中芯国际宣布14nm工艺的量产

14纳米光刻机中国能造吗 2023-08-20 11:01 826 墨鱼

14纳米光刻机中国能造吗

中国14纳米芯片光刻机量产,中芯国际宣布14nm工艺的量产

官方数据是国产光刻机可以实现90nm芯片的量产，但这并不意味着更多的先进技术没有被研究出来。上海微电子是一家负责集成光刻机设计和量产的厂商，已定于2020年12月接受193nm氩弧焊行业预测，28nm将成为100%国产芯片的新起点，国产14nm芯片有望分别在今年和明年量产。对此，中国电子信息产业发展研究院电子信息研究所所长温晓军在接受环球网记者采访时表示，国内14nm

要知道，深紫外光刻机是制造14nm工艺芯片的唯一方法，而采用浸入式深紫外光刻技术也可以在几个月内完成7nm工艺，虽然这会增加成本并降低良率，但可以实现从0到1。这四家工厂主要生产28nm和14nm高端工艺芯片。一旦全部投产，中兴国际的芯片产量预计将翻番至目前水平，可在一定程度上缓解国内芯片产能差距。。其中，中芯国际East预计今年年底投产，中芯国际

上海透露，上海企业在90纳米光刻机、14纳米芯片量产、5纳米刻蚀机、国产CPU、12英寸大硅片、5G芯片等方面取得突破。并已形成2500亿元的集成电路规模，占全国的25%。这些90纳米光刻机来自上海微电子，该公司也是国内唯一一家能够量产光刻机的芯片半导体公司。中威是5纳米刻蚀设备的先驱，中威是世界上最好的公司之一。他们的5纳米刻蚀机

＋▂＋ 14nm工艺不需要先进的EUV光刻机，只要ASML现有出售的DUV光刻机就可以实现，即使是芯片制造商用于28nm工艺生产的DUV光刻机也可以使用多重曝光技术。实现14nm工艺，该14nm工艺的芯片制造不需要先进的EUV光刻机。上海芯片制造公司采用了一系列创新技术和方法，成功利用现有的DUV光刻机实现了该工艺的量产。 DUV光刻机是常用的光刻技术设备，通过

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