尼康光刻机发展史,美国gca光刻机

尼康光刻机发展史,美国gca光刻机

步进光刻机的曝光范围随着日本厂商尼康和佳能的崛起，光刻机已经从1:1投影时期进入了变焦投影时期。 芯片制造工艺越小，对各种像差的容忍度就越低，需要校正的光学系统就越复杂。因此，20世纪60年代，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机。 接触式光刻机直接将光掩模覆盖在硅片上，使两者直接接触，然后用光对其进行照射。 与此同时，日本的

≥﹏≤ 尼康的发展历史旨在光学仪器的国产化。从1917年成立至今，介绍了公司发展历史中各个时期发生的公司和产品相关事件。 时间与事业（公司大事、业务发展及子公司）20世纪80年代，尼康发布了第一台商用步进光刻机NSR-1010G。1984年，尼康和GCA各占30%的市场份额，同年ASML刚刚成立。1991年ASML推出PAS5500步进光刻机，成为ASML的常绿设备之一.200

此时，光刻机巨头ASML尚未出现。日本的尼康、佳能已于20世纪60年代末开始进入这一领域。 改革开放一年后，即1978年，1445在GK-3的基础上开发了GK-4，将加工晶圆的直径从50mm增加到7mm。因此，尼康制造的步进光刻机可以帮助芯片公司制造更多的先进芯片，这对GCA来说是一个缺陷。同时，由于尼康的产品也具有成本优势，在20世纪80年代，尼康开始在光刻机市场崛起。 现实

支持100nm规则量产的镜头扫描ArF准分子光刻机（ArF扫描光刻机）。 尼康集团的品牌标志采用以灯光为主题的品牌标志。 单反相机"尼康F6"的销售，继承了尼康F系列"光刻机巨人"传奇中ASML的成长史。笔者将继续并完成光刻机的整个发展史，为90年代后与尼康的世纪之战做一个弥补。 ，而EUV光刻机经过十多年的研发，克服了重重困难，最终成功打造出全球第一台EUV光刻机。

尼康是上世纪末当之无愧的光刻机巨头。从80年代末到本世纪初，尼康的光刻机市场占有率超过50%，代表了当时光刻机的最高水平。 这一点从尼康官网半导体光刻系统的发展历史也可以看出。1980年出货的NSR-1010光刻机，其实可以简单理解为"超超超...超高精度"相机。将设计好的电路投影到硅片上。 1947年，贝尔实验室发明了第一个点接触晶体管。 从此，光刻技术开始发展。 1959年，世界第一