光刻机的分类,光刻机的工作原理

光刻机图片 2023-11-18 13:28 994 墨鱼

光刻机图片

光刻机的分类,光刻机的工作原理

光刻机的分类,光刻机的工作原理

2.光刻机分类图2.光刻机发展历史光刻机发展至今，经历了五代的产品迭代。 1985年之前，第一代光刻机光源主要是436nm线汞灯光源，只适合5μm以上的工艺；后来出现了365nm光刻机（光刻机），又称：掩模对位曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它采用类似于照片打印的技术，通过曝光将掩模上的精细图案打印到硅片上。下一个，阿美亚3

常见的分类包括光源分类，如高端EUV极紫外光源光刻机、DUV深紫外光源光刻机、i线光刻机、g线光刻机（光刻机），又称：掩模对位曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它采用类似于照片打印的技术，通过曝光将掩模上的精细图案打印到硅片上。

光刻机是半导体行业常用的设备，用于将电路图案转移到半导体芯片上。在制造芯片时，需要使用光刻机将电路图形"电镀"在芯片表面，以便进行后续加工。根据不同的分类标准，光刻机可以分为以下几类。一、按曝光方式分类1、接触式光刻机接触式光刻机是最早的光刻机，其曝光方式是直接将掩模版与硅片接触，然后通过紫外光照射

后台-插件-广告管理-内容页尾部广告（手机）

标签：光刻机的工作原理