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中国首台5纳米光刻机图片 2023-11-27 22:39 704 墨鱼

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目前，这种光刻机擅长的应用是光学器件（如光栅、微纳光学元件等）的生产。很多人只关注新闻（图片来源：ASML官网）ASML并没有停下脚步，在今年发布的最新财务报告中，ASML最新一代EUV光刻机NXE:3600D系统已经发货给客户。据了解，与NXE:3400C相比，该系统可提供15%至20%的生产力提升

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目前分析：国内第一代LPP光源早在2016、2017年就取得了突破，当年长春光机所的EUV光源原理原型就是LPP。DesignBox光刻机图片专集为设计者提供免费的光刻机图片素材。下载服务，我们丰富的光刻机素材有EPS、AI、PSD、PNG等矢量图像格式，创意无限，供您直接使用！

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芯片是高精度集成电路的体现，是现代电子工业发展的顶级代表。制造高精度芯片需要高质量的光刻机。世界上拥有先进光刻机的国家都被美国禁令禁止向中国出口。中科院光刻机（MaskAligner），又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是微机电、光电、二极管大规模集成电路制造的关键设备。分为两种，一种是模板型，一种是图案尺寸型

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