国产光刻机多少纳米,28纳米实现全国产了吗

国产光刻机多少纳米,28纳米实现全国产了吗

目前，国际上最先进的光刻机是ASML生产的EUV（极紫外）光刻机，其采用波长为13.5纳米的光源，分辨率已达到7纳米。 Tosumup,themostadvancedlithographymachineinChinais22nanometers.AlthoughChina’sfriendswhopayattentiontodomesticlithographymachinesintermsofEUVlithographymachinesshouldknowthatthemostadvancedmodelofdomesticlithographymachinesisfromShanghaiMicroelectronicsSSA600/20,thelithographymachineadoptsARFexcimerlaserlightsource,thewavelengthis193nanometers,andthemaximumresolutionis90nanometers. 然而，清华的

˙﹏˙ 国产90nm光刻机并不是没有用，而且不仅仅是7nm工艺才算芯片。 例如，手机主板上的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、路由器芯片、各种电器的驱动芯片等仍然采用28-90nm工艺的芯片。 对于网友来说，最先进的光刻机是600系列，光刻机的最高制作工艺可以达到90纳米。 不过，与荷兰ASM公司拥有的EUV光刻机相比，它可以实现高达5纳米的工艺。 正在向3纳米迈进

∩▽∩ 28nm将是我们国产光刻机的最高技术水平。严格来说，这确实不是一个高水平。领先的有14、7、5、3、2，甚至1nm。 但28nm工艺不成熟，生产成本低，只要不追求极致性能，所以目前国内正在努力开发28nm光刻机，两次曝光后就可以加工14nm。至于7nm工艺，那么最好期待EUV光刻机，28nm会进行三次曝光，良率还看不到。 然而，在整个半导体产业链中

首先说一下结论。首先，新闻中的9nm分辨率是真实的，但对国产光刻机研发的贡献非常有限，因为从实验室理论来看，中国光刻机现在已经达到了22纳米。 在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机一直停留在90纳米工艺芯片的生产上。