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近日,ASML曝光的首款2纳米芯片制造设备引起了全球科技界的广泛关注。 据报道,到2024年,该设备的全球产能仅为10台,这意味着该技术目前的产能非常有限。 这一消息让人们关注2023-11-24民航总局机场部门关于《机场道面异物检测设备安全技术要求》征求意见的通知2023-10-13关于航空障碍灯标准化项目检查工作的通知2023-10-12中国民用航空局
根据半导体工艺的不同,半导体制造设备可分为以下几类:1.清洗设备:用于清洗半导体晶圆表面以保证表面清洁度的设备。 2、曝光设备:用于将芯片图形转移到硅片上的设备是芯片制造中人类技术的巅峰——光刻机。光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。 芯片制造可以包括初步氧化、光刻胶涂覆、曝光、显影、蚀刻、离子注入等多个工艺过程。 这个过程需要使用
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