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中国目前芯片技术是多少纳米 |
中国芯片现在能量产几纳米,中国成功生产5纳米光刻机
目前国内芯片是28nm,国外最先进的芯片是3nm。 十年后,国产芯片可能是14nm或者7nm,但国外最先进的芯片制造工艺还在不断升级,从7nm到5nm,现在又到3nm。台积电和三星已经实现了3nm芯片的量产,未来也有规划。 开发2纳米甚至1纳米芯片,继续挑战摩尔定律的极限。 但我们必须认识到芯片制造工艺升级的现实
ˋ0ˊ 它生产供应14nm芯片,只能加工28nm以下工艺的普通芯片,所以下架了14nm芯片。 这正好说明,中芯国际等公司在高端芯片制造领域被制裁打压后,如果按照木桶理论,用国产设备生产的芯片最高可达90nm。 有人肯定会说光刻机可以进行多次曝光,精度达到90n,甚至可能达到28n的精度,这个还没有得到官方证实。
目前可以生产的芯片工艺节点主要在14纳米到90纳米之间。 14纳米工艺是中国芯片制造的重要里程碑,由中芯国际率先推出。 该工艺节点的芯片已经在市场上得到应用,尤其是在手机领域。然而,只有少数主要芯片国家能够生产如此高端的制造工艺。遗憾的是,我国不在其中。 幸运的是,28nm和10nm之间的14nm芯片是目前芯片市场最主流的产品。
目前最先进的芯片制造工艺是3nm,台积电和三星已经量产,他们使用EUV光刻机,投资了数百亿美元才取得突破性进展。 而且,中芯国际缺乏半导体产业链足够的支持,这也体现了美国人的态度。目前,中国生产的芯片大多基于28纳米以上工艺,可以满足国内70%的芯片需求。事实上,全球70%的芯片需求是28纳米以上芯片采用成熟工艺生产的。汽车、家电、电视等产品都可以满足国内70%的芯片需求。全部使用28nm以上。
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标签: 中国成功生产5纳米光刻机
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