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5nm芯片中国制造出来了吗 |
中国5纳米光刻机突破,我国唯一一台7nm光刻机
其实7nm和5nm的刻蚀机并没有严格的区别。刻蚀机的工作过程实际上就是浸泡和腐蚀。 对于芯片来说,设计完成后,首先在金属表面覆盖一层光刻胶,形成所谓的晶圆。 那么就轮到光刻机出场了,我们可以从价格上看两者的技术难度,直写光刻机的价格在200万左右,而用于芯片生产的高端光刻机可以卖到3000万到5000万。 亿,因为世界上只有少数厂家能做到,而且技术完全垄断。中国要打破国外市场。
近日,光刻机市场传来两则消息,一是国内公司已经开发出SAQPand的技术,可以绕过EUV光刻机,实现7nm工艺甚至5nm工艺,最重要的是还没有达到经济极限。 。 另一条是哈尔滨工业大学宣布中科院5nm光刻技术突破ASML垄断,引发国外热议! 真相是这样的。近日,中科院官网发布的研究进展显示,该团队研发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法随后问世。
消息一出,外界议论纷纷,有媒体声称这项技术可以"突破ASML的垄断"、"中国芯片取得重大进展"、"中国无需EUV光刻机就能生产5纳米芯片"。 论文通讯作者中科院研究的光刻机,又称掩膜版对位曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心设备。 光刻,也称为光学光刻或紫外光刻,是薄膜或基板(也称为"晶圆")上的零件的图案化
锋利的! 中科院5nm光刻技术取得突破,国产VCSEL光学芯片打破欧美垄断。 技术领域的话语权不容妥协。 美国的禁令阻碍了我国的芯片发展。 同时也让大家认识到,要想有好的发展,ASML最高端的EVU(极紫外)光刻机是目前采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。 由于几乎所有光学材料对波长13.5nm的极紫光都有很强的吸收作用,因此EVU光刻机的光学系统
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