光刻胶是谁发明的,光刻胶与光刻机的关系

光刻胶是谁发明的,光刻胶与光刻机的关系

集微网新闻（文/陈娇娇）光刻胶自1959年发明以来一直是半导体的核心材料，随后经过改进并应用于PCB板的制造，并在20世纪90年代应用于平板显示器的加工制造。 在光刻过程中，光刻胶使用的是光。不过，虽然光刻胶是美国人发明的，但如今的光刻胶市场却被日本垄断。 据此前媒体统计，目前全球光刻胶市场基本被日本寡头垄断，仅有日本JSR、东京安化、信越化学

2015年，滕超将注意力转向光刻胶这一困扰芯片研发的关键材料。 该材料用于芯片核心部分的电路封装和光刻开口，被日本、美国垄断，在很多领域禁止国内企业销售。 很多公司都很难谈论它——光刻胶你53岁在做什么？ 北京科华创始人陈鑫决定创办一家开发先进半导体光刻胶的公司。 2004年8月，陈鑫回国创立北京科华，计划用5年时间量产G/I线光刻胶。

这类光刻胶的发展历史可以追溯到中国宋代（公元960年至1279年）的印刷技术，当时树胶被用作印刷油墨材料。 19世纪末，德国药剂师HeirichHertel首先使用橡胶作为光刻胶。概述2发展历史1831年，法国的J.N.Niepce将沥青石板放入相机中，经过长时间曝光后，用松节油擦拭未固化的沥青，得到照相图像，引起了法国女士们的极大兴趣。

光刻机是法国人尼斯福雷涅普斯发明的。起初，尼斯福雷涅普塞发现了一种可以刻在油纸上的印记，当它出现在玻璃片上时，经过一段时间的曝光，透光部分就会变得很硬，而光刻胶自1959年发明以来，一直是半导体的核心材料。并应用于PCB板的制造，并在20世纪90年代被用于平板显示器的加工和制造。 最终应用领域包括消费电子、家电、汽车通讯等。 光

【家林点评】南大光电发明的高分辨率光刻胶溶液，在使用含有二酯结构的光产酸剂的条件下，通过添加具有酯键的酸扩散抑制剂，进一步改善了光刻胶的性能。 线宽不仅可以提高光刻胶的树脂和光引发剂，它们是光刻胶的核心部分，在整个光刻胶中起支撑作用，使光刻胶耐蚀刻；光引发剂是光刻胶材料中的感光成分，可以发生光化学反应。 光刻胶应用广泛